液晶パネル及びそれを用いた電子機器並びに投写型表示装置

Liquid crystal panel and electronic apparatus using the same, and projection type display device

Abstract

【課題】半導体装置でパシベーション膜として一般的に使用されている減圧CVD法による窒化シリコン膜は、膜厚の10%程度のばらつきが生じるので、これを反射型液晶パネルに用いると、パシベーション膜の膜厚のばらつきによって反射率が大きく変化したり、液晶の屈折率が変動したりするという不具合がある。 【解決手段】基板(1)上に反射電極(14)がマトリックス状に形成されるとともに各反射電極に対応して各々トランジスタが形成され、前記トランジスタを介して前記反射電極に電圧が印加されるように構成された液晶パネル用基板において、パシベーション膜(17)として、膜厚が500〜2000オングストロームの酸化シリコン膜を使用し、入射光の波長に応じて膜厚を適当な値に設定するようにした。 【選択図】図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem of a semiconductor device, in which a silicon nitride film generally used as a passivation film formed by a low-pressure CVD method has approximately 10% variation in film thickness, and the use of this film for a reflection liquid crystal panel causes a large change in reflectance due to the variation in film thickness of the passivation film, thereby changing a refractive index of the liquid crystal.SOLUTION: A liquid crystal panel substrate comprises: reflection electrodes (14) formed in matrix on a substrate (1); transistors respectively formed corresponding to the reflection electrodes so that a voltage is applied to the reflection electrodes through the transistors. A silicon oxide film of 500 to 2000 Angstrom film thickness is used as the passivation film (17), and the film thickness is set to be an appropriate value according to the wavelength of incident light.

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Patent Citations (5)

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