ウエハー上で実施される測定中のプロセスに関するダイナミック・サンプリング・スキームを生成または実施するための方法ならびにシステム

Method and system for creating or performing dynamic sampling scheme for process in measurement performed on wafer

Abstract

【課題】プロセス監視と制御の精度を改善に使用可能な、ウエハー上で測定プロセスに関するダイナミック・サンプリング・スキームを生成または実施する方法を提供する。 【解決手段】ウエハー上で実施される測定中のプロセスに関するダイナミック・サンプリング・スキームを生成するための方法は、少なくとも一つのロット内の全てのウエハー上の全ての測定箇所で測定を実施することを含む。また、測定結果に基づきプロセスに関するダイナミック・サンプリング・スキームに関する最適なサンプリング・スキーム、強化されたサンプリング・スキーム、削減されたサンプリング・スキーム、そして閾値を決定することを含む。閾値は、測定に関して最適なサンプリング・スキーム、強化されたサンプリング・スキーム、そして削減されたサンプリング・スキームがプロセスに関して使用されるべき測定の値に対応する。 【選択図】図4
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide methods for creating or performing a dynamic sampling scheme for a measurement process on wafers, which can be used to increase accuracy of process monitoring and control.SOLUTION: A method for creating a dynamic sampling scheme for a process during which measurement is performed on wafers includes performing measurement on all of wafers in at least one lot at all measurement spots. The method also includes determining an optimal sampling scheme, an enhanced sampling scheme, a reduced sampling scheme, and thresholds for the dynamic sampling scheme for the process on the basis of results of the measurement. The thresholds correspond to measurements at which the optimal sampling scheme, the enhanced sampling scheme, and the reduced sampling scheme for the measurement are to be used for the process.

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